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第188章 极紫外光源研制成功了
    此时,已经上午10点钟了。

    许黎看着试验台上的东西,终于是松了一口气。

    “终于做出来了”

    然后他就瘫在椅子上,身心顿时放松了下来。

    毕竟这吸转器可没有那么容易搞定。

    需要尝试不同的吸收材料,对比参照实验,这样才能更大程度的处理碎屑污染。

    经过一番筛选后,许黎在小黑的帮助下,成功弄出一种合成材料,才达到不错的碎屑吸收效率。

    将其制成吸转器,可以将碎屑吸收,并且进一步的转化成电能。

    其中的构造可谓是复杂无比。

    这时,许黎听到身后有脚步走动的声音。

    李默的身影就出现在他身旁,看了试验台那一个环状装置顿时眼睛一亮。

    “校长,这吸转器搞出来了”

    “嗯,可费了我不少的脑细胞,现在赶紧将光源搞出来看看吧”

    许黎回道。

    “那好,我叫徐教授过来。”

    不久,徐华来到了实验室,对许黎做出来的吸转器亲自测试了一番,为此赞不绝口。

    “这下子太好了,我们可以不用之前的两种方案类,直接安装吸转器就可以了,这样极紫外光源就可以搞出来了”

    徐华很是高兴地说道。

    “啊哈那你们先搞着,我先去隔壁休息了,熬了一夜了,有问题再叫我”

    许黎打了个哈欠。

    “好,那校长你先休息一下,后面的工作就交给我们把。”

    “嗯,好。”

    许黎实在困得不行了,就直接出了实验室去了隔壁的休息室休息,那里有临时打的床铺,专门给经常熬夜研究的科研工作人员休息用的,还准备了一些必要的常规药品和直饮水机,以防不时之需。

    许黎关上了门,闭上双眼,沉入梦境。

    而梦境之内,他就像一个旁观者,浮于梦里,看到了一个个心想事成的片段

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    而后就是一段一段的模湖片段,因为速度很快,看不清发生了什么。

    但最后,他忽然辗转之间,来到群星之间,回首望去,一个星系在他眼前映现。

    那是太阳系,人类赖以生存的恒星系。

    而这时,一道流光似乎划破了星空,直入太阳系,带着宛如“彗星”的尾巴,消失不见了。

    “校长校长”

    忽然,一道兴奋而激动的声音在他耳边响了起来。

    许黎从梦境挣脱,睁眼之时,只见李默已经在床前站着了。

    许黎揉着惺忪的双眼,疑惑道“怎么了”

    “成功了我们的极紫外光源研制成功了”

    李默面色激动地道。

    许黎立扫困意,睁大了眼,“真的我们一起去看看”

    他也不顾李默了,直接离开休息室。

    等他来到实验室后,发现已经有不少人正围着一个机器,有些还在一边拿笔记本或电脑记录着什么数据。

    “校长,你来了。”

    徐华见到许黎两人到了,挥手示意让其他人让出路来。

    许黎走过来一看,发现一个箱形装置已经静静地躺在试验场地中央。

    “这就是极紫外光源成功了”

    许黎疑惑道。

    “是的,我们已经成功将该光源研制出来了,再经过我们多次重复试验以及对比论证,现在,过程极紫外光刻光源已经完成了研制,加上我能独立设计的透镜物镜及其光学系统,其性能超过目前国汉斯猫的5倍左右,如果能够配合好的其他光刻机部件,那该组装完成的光刻机可以综合提升35左右,可以制作性能优秀的5纳米芯片”

    徐教授兴奋地解释道。

    他还从来没有相关,一个工业明珠上的皇冠的一个核心部件,就这样被他们攻克了。

    只要给他们时间,燧人科技也能挤进全球半导体顶尖玩家的殿堂,成为euv光刻机部件供应链的厂商之一。

    到时候也能在半导体领域上拥有自己的话语权,即使没有拥有全套的光刻机制造技术,但是起码不至于让国内这么的被动。

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    “既然如此,我们也应该通知一下我们的盟友,想必他们也等急了。”

    许黎一笑。

    “好”

    徐华应了一声。

    春城,长光电所

    陈所长此刻正愁着怎么改进光刻机呢。

    虽然之前已经通过花为的牵线搭桥和燧人科技搭上了,主要是合作改造现有光刻机。

    而这个改造的光刻机主要是28n的光刻机,因为现在国内的光刻机也只能勉强达到28n工艺。

    据魔都微电子透露,明年他们有望交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。

    算是在刚好迈在高端光刻领域的门槛,也就是现在国内的光刻科技水平还停留在中端水平。

    根据光刻机工艺水平,光刻机主要划分为超高端、高端、中端、低端四个层次。

    首先,光源euv135n、节点5n7n的光刻机是处于超高端层次的,全球只有as这一家公司可以组装制造。

    其次,光源ar浸入式,节点在728n处于高端层次的。

    最后,光源arkrie,且节点是65n或90n的,分别处于中端、低端层次。

    注意,这里的arkr指的是深紫外光刻光源。

    想要制作更好的的芯片,那就得造出更好的光源,比如极紫外光源euv。

    即使是这种ar 28n光刻机和as公司最先进的euv5n光刻机工艺有着天壤之别。

    但是也能将国内的光刻水平提升到世界先进水平,完全可以满足常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、电器的驱动芯片等绝大部分逻辑芯片的要求,以及大部分数字芯片的要求。

    陈所长也听说三桑目前正在研究3n芯片工艺的光刻机,也许很多人都以为很厉害,但是对于他这种业界的人自然知道其中的道道。

    现在的7n或5n芯片,不是从前的含义,最准确的是牙膏厂的命名,只是它也学坏了。

    芯片的纳米制程并不是真的几纳米,更多是一种更新迭代的说法。

    上一代可能是4n,下一代根据摩尔定律乘以根号7,差不多3n。

    以前的制程是指晶体管的宽度,现在则是晶体管的沟道宽度,就出了这种个位数的纳米制程。

    就像目前三桑研究的3n光刻机,由于极紫外光刻技术受到光电效应的影响,可能其实际线精度在十几纳米或20纳米。

    不过这种纳米制程的芯片如果不用euv光刻机的话,也是弄不了的。

    虽然各厂家的命名方法各有所别,但也不是完全没有意义。

    长光机电所也在为接下来的14n工艺光刻机刻苦攻坚。

    只是没有极紫外光源,想要做成这样的光刻机恐怕很难。

    “唉”

    陈所长也知道这需要不长的时间,可能几年、几十年,甚至最坏的结果失败。

    但是还是要继续攻研技术,要不然以后只能被人牵着牛鼻子走啊。

    就在陈所长满心忧愁的时候,一个电话响了起来,打断了他的思绪。

    他接起来一听,顿时眼睛睁瞪如灯笼般大小,惊声道

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